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与本文前面介绍热导管技术相比,Vapor Chamber真空腔均热板原理与理论架构是相同的,只有热传导的方式不相同,热管的热传导方式是一维的,是线的热传导方式,而Vapor-X所用的均热板的热传导方式是二维的,是面的热传导方式。它以真空腔体内热超导介质的蒸发热快速均匀散布到低温处冷凝,再由腔体内之毛细结构回流至热源,几近超音波速度做动中重复蒸发、冷凝的动作,把大量的热能在极短的时间内排出,一个50cm2, 6mm厚的真空均温板Heat Flux热传密度可达115W/cm2 。 蓝宝Vapor-X Technology原理:
显卡核心Heating①,产生热能通过大面积均热板迅速吸收和传导,使封装的介质开始由液体转化为气体,通过②蒸发区将热能带出。③气态介质膨胀至整个真空腔,将带出的热能迅速传导到整个封装的铜内腔体中并传导到铝鳍片上。④铝鳍片的热能经过风扇强制对流冷却后, 使工质失去热能冷却,变化为液态通过内腔管壁毛细作用⑤回流到底部②蒸发区,回流到底部后又吸收到新的热能,并再度气化将热带出, 形成一个循环。
根据蓝宝资料显示,Vapor-X所用的均热板材料具备非常低的热阻值,只为铜的50%,可以让芯片热量消散的速度更快,同时具备更高的热传递性,基本是铜的2倍,热量从核心传递到鳍片的速度更快,单位时间内的热交换率提高。
蓝宝HD3870 Toxic所用的均热板面积相对小和对精度要求极高,对真空腔的制造工艺和良率要求十分苛刻,因此目前产能相当低,成本也高出不少。:
国外hexus.tv网站也有一段讲解Vapor技术原理的视频,地址在这里:点击进入。E文好的朋友可以去看看。
Vapor Chamber真空腔均热板比纯铜基板具有更好的热扩散性能,特别适合于大功率的CPU、GPU的使用。根据奥古斯丁科技股份有限公司的一份有关“真空均热板”的专业报告指出,真空均温板技术将会在未来的短期内完全取代传统散热组件,在往后的20年成为散热组件的主流。
《HD3870 ATOMIC/Toxic——Vapor-X真空腔均热板》...返回上一页<< |